色谱级正庚烷生产厂家彪仕奇收集发现对于许多有机反应而言，氧的存在比微量水的存在的危害性更大。如果一个反应没有按预想结果发生，那么应该确认一下体系中的氧是否已经除净，包括溶剂中溶解的氧气。对于某些特定的反应而言，溶剂除氧是非常必要的:
1. 超过120度的反应或者在80度以上长时间加热的反应。这些反应通常在密封管中进行，并且通常加热温度在溶剂的沸点以上，尤其是对于分子内的反应而言，如果反应期间颜色变黄或者变棕通常认为是由于氧的存在。高温的反应对氧十分敏感，甚至于在打开反应对样品进行TLC取样时带入的氧气也有可能破坏反应。
2. 有机金属反应。对于许多有机金属反应而言，需要提供一个无氧的环境(有时需要无氮的环境)。对于使用某些敏感的催化剂而言，进行10次冻干-抽泵-解冻的循环并不少见。
彪仕奇色谱级正庚烷具有低UV背景吸收、优异的HPLC梯度洗脱基线、低固体颗粒及挥发残留、低含水量、优异的批次稳定性。有效的避免了鬼峰及错误结论、减少了色谱柱的污染及系统堵塞、避免了正相色谱柱的失活、更换批次时无需更改HPLC标准方法、高通量生产中降低了次品率。
3. 自由基反应以及光化学反应：自由基物种往往能够与氧气发生反应，显而易见必须除氧。
4. 底物中含有硫醇、硫醚、磷化氢、富含电子的芳香族化合物等。加热溶剂通常会导致这类底物发生氧化反应，尽管在通常情况下这类化合物是稳定的。
色谱级正庚烷生产厂家彪仕奇致力于为客户提供一流的产品和技术服务，推进企业的循环的发展。
